原裝進口EBARA 荏原 TND 濕式廢氣處理器
原裝進口EBARA 荏原 TND 濕式廢氣處理器
TND 型是一種燃燒式廢氣處理系統，采用的燃燒方法，實現低 NOx 和低 CO 排放。 通過各種腐蝕和副產品對策，實現了比傳統產品多 3 倍以上的維護間隔，并且采用耗電量少的低運行成本方法，可以以較低的成本使用。 產品陣容包括 TND-Single 型燃燒型 + 凈水機和 TND-Single Plus 型預清洗 + 燃燒型 + 凈水機。 即使在具有許多副產品的工藝中，也能實現低運行成本和高效加工。
TND
低 NOx 和豐富的反應副產物對策，燃燒式廢氣處理系統，降低維護成本
燃燒廢氣處理系統
低 NOx、低 CO 排放
多種氣體的批處理
PFC 氣體的高效處理
副產品對策和粉末自動卸料功能
濕-燃燒-濕型號可選
長期維護間隔
運行成本低
產品介紹
規范
北崎8年，日本會社20年，專注領域如下：
型
單位
TND-單 A1-A4/ TND-單 P1~P4
TND-單加-A1~A4/P1~P4
加工方法
燃燒 + 濕式
濕式 + 燃燒式 + 濕式
*進氣量
升/分鐘
200 （每個端口）
200 （每個端口）
400 （每單位）
400 （每單位）
燃料
城市燃氣/丙烷氣選擇
城市燃氣/丙烷氣選擇
大小
寬 x 深 x 高 mm
1,200 x 650 x 1,980
1,200 x 650 x 1,980
可處理氣體示例
工藝（倉庫）氣體
SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2、PH3、Si3H8 等。
一般
清洗氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。
一般
蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。
工藝（庫）氣體
WF6、TiCl4、SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等
一般
清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般
蝕
刻氣體 HBr、Cl2PFC
如
SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6、CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。
標準設備
用于除粉的水清潔機制
前級粉末收集機構
除粉 vernas 刮刀
除粉 vernas 刮刀
選擇
市政水和廢水消耗減少裝置
市政水和廢水消耗減少裝置
粉體減排風機洗滌器
粉體減排風機洗滌器
儀器相關：
山高SANKO（代理）、東機產業TOKI（代理）、索尼克SONIC（代理）、東日技研DIT（代理）、杉山電機SUGIYAMA（代理）、愛安德AND(廠家合作）、飯島電子IIJIMA、東麗TORAY、共和KYOWA、愛安德AND、豪雅HOYA（代理）
備件設備相關：
柴田SIBATA(代理）、 壺坂TSUBOSAKA（代理）、雅馬拓YAMATO、新光NEWKON（代理）、武藏MUSASHI（代理）、尼得科NIDEC（代理）、MRM(代理）、坂口電熱SAKAGUCHI（代理）、岡崎OKAZAKI、椿本TUSBAKI（廠家合作）、山本鍍金YAMAMOTO、馳卡沙TSUKASA、朝日分光ASAHI、東機理化EYELA、科庫森KOKUSAN
光源相關：
巖崎EYE（代理）、日森SEN（代理）、晰寫速CCS（代理）、萊寶克斯REVOX（代理）、索萊克SERIC(代理）、普拉瑞POLARION、船越龍FUNATECH、牛尾USHIO、艾泰克ATIEC、山田YAMADA、拓普康TOPCON、歐阿希ORC、賽納SENA、英富麗INFLIDGE
電氣控制：
SIEMENS西門子（廠家合作）、MITSUBISHI三菱，OMRON歐姆龍（廠家合作）、基恩士KEYENCE（廠家合作）
在手機上查看
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