北崎供應EBARA 荏原 G6 P1-P4 燃燒式廢氣處理器
北崎供應EBARA 荏原 G6 P1-P4 燃燒式廢氣處理器
G6 型是一種燃燒式廢氣處理系統，能夠高效、大容量地處理制造過程中使用的各種氣體。 它允許的進氣量約為傳統型號的 3 倍，還可以處理高發熱的大流量氫氣。 根據要處理的氣體的類型和數量，通過按需（可變燃料供應量）運行功能降低了運行成本，并通過大容量副產品捕集器等副產品措施降低了高流量氣體處理時的維護成本和負荷。 它非常適合用于半導體、液晶面板、太陽能電池和 LED 等電子元件的制造、化學和材料制造商以及各種實驗室。
| 型 | 單位 | G6 A1~A4 | G6 P1~P4 |
| 加工方法 | 燃燒 + 濕式 | 燃燒 + 濕式 | |
| *進氣量 | 升/分鐘 | 1,200 x 1,900 x 2,300 | 1,200 x 1,900 x 2,300 |
| 燃料 | 城市燃氣 | 丙烷氣 | |
| 大小 | 寬 x 深 x 高 mm | 1,200 x 1,900 x 2,300 | 1,200 x 1,900 x 2,300 |
| 可處理氣體示例 |
工藝（倉庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2、PH3、Si3H8 等。 一般 清洗氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。 一般 蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 |
工藝（倉庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2、PH3、Si3H8 等。 一般 清洗氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。 一般 蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 |
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| 標準設備 | 高流量 NF3 處理燃燒器 | 高流量 NF3 處理燃燒器 | |
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京公網安備 11010802023672號
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